Hi!下午好!欢迎访问互联网
当前位置:主页 > 科技

中兴新专利曝光上下双刘海设计

时间:2019-02-03 01:30:05| 来源:| 编辑:笔名| 点击:0次

中兴新专利曝光:上下双刘海设计

近日,中国国家知识产权局曝光了一组中兴的新专利图片,从图中我们可以看到,该机采用了上下双刘海的设计,这在全面屏领域,这种设计理念还尚属。

从专利图中,我们可以看到,该机的上刘海为前置摄像头,下刘海为前置指纹解锁,其余部分几乎全为屏幕部分,后面我们看到,该机采用了双摄的设计,但是在背后依然有类似指纹识别的部分,采用前置指纹识别之后,还有后置指纹识别,这也是我们之前没见到过的。

此次为中兴第二次提交这种专利的设计

中兴新专利曝光上下双刘海设计

,预计该设计应该将会用在中兴的新款旗舰机上。由于该机的设计前卫,相信中兴对其的定价也不会太低,其他更多的细节目前还不得而知,更多详情请大家关注我们的后续报道。